[实用新型]一种基于双重固定的固体核径迹蚀刻架有效

专利信息
申请号: 201922264591.4 申请日: 2019-12-16
公开(公告)号: CN212031754U 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 丁艳秋;王晨;郭文;王恺怡;胡爱英 申请(专利权)人: 中国疾病预防控制中心辐射防护与核安全医学所
主分类号: G01T5/02 分类号: G01T5/02;G01T7/00
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 侯越玲
地址: 100088*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种基于双重固定的固体核径迹蚀刻架,至少包括:支撑座(1),其上能够设置若干个用于放置探测器的卡槽(2),所述固体核径迹蚀刻架还包括辅助固定架(3),其中,辅助固定架(3)的第一端(3a)能够铰接至支撑座(1)的第二端(1a),在所述探测器嵌套设置于所述卡槽(2)中的情况下,所述辅助固定架(3)能够按照绕其第一端(3a)旋转以使得其第三端(3b)抵靠至支撑座(1)的第四端(1b)的方式抵靠至所述探测器。
搜索关键词: 一种 基于 双重 固定 固体 径迹 蚀刻
【主权项】:
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