[实用新型]PNP型肖特基集电区AlGaN/GaN HBT器件有效

专利信息
申请号: 201922274452.X 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN210110780U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 李迈克 申请(专利权)人: 中证博芯(重庆)半导体有限公司
主分类号: H01L29/737 分类号: H01L29/737;H01L29/47;H01L29/10;H01L29/06;H01L21/331;H01L29/20;H01L29/207
代理公司: 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 代理人: 霍维英
地址: 401520 重*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了PNP型肖特基集电区AlGaN/GaN HBT器件,从下往上依次包括:衬底、埋氧层、集电区、基区以及发射区,所述集电区包括下层的P型单晶硅层以及上层的金属硅化物层,所述基区包括N型AlGaN层,所述发射区包括P型GaN层;所述P型单晶硅层上设有集电极,所述N型AlGaN层上设有基极,所述P型GaN层上设有发射极。本实用新型接触界面特性好,可提高器件开关速度和截止频率。
搜索关键词: pnp 型肖特基集电区 algan gan hbt 器件
【主权项】:
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