[实用新型]一种轴向位移光学测量设备有效
| 申请号： | 201922341630.6 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN211602694U | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 刘伟 | 申请（专利权）人： | 贵州理工学院 |
| 主分类号： | G01N3/06 | 分类号： | G01N3/06;G01B11/16 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 韩炜 |
| 地址： | 550003 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种轴向位移光学测量设备，包括有测量室，测量室外部的中部区域为感光观察区，测量室内的底部设有样品台，顶部设有与样品台同轴的压力柱；所述压力柱底端的侧面设有上圆弧形反射板，测量室内壁水平对应上圆弧形反射板的区域内设有上激光发射器。本实用新型具有形变位移数据测量精度高，操作简单，设备使用寿命长，维护成本低的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 轴向 位移 光学 测量 设备 | ||
【主权项】：
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