[实用新型]一种电芬顿集群磁流变复合研磨抛光装置有效
| 申请号： | 201922344890.9 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN211439242U | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 张棋翔;潘继生;邓家云;阎秋生 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/10;B24B31/12;B24B27/033;B24B41/02;B24B55/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 王锦霞 |
| 地址： | 510060 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种电芬顿集群磁流变复合研磨抛光装置，包括底座、集群磁铁、自转传动组件、公转传动组件、第一驱动组件、内盛有磁流变液的抛光盘、第二驱动组件以及电芬顿组件，集群磁铁安装于自转传动组件、自转传动组件连接于集群磁铁和第一驱动组件之间、公转传动组件连接于第一驱动组件和自转传动组件之间，抛光盘与第二驱动组件连接、且抛光盘位于集群磁铁上方。本实用新型电芬顿反应生成物·OH与被加工工件反应生成氧化层；集群磁铁自转和公转以及抛光盘转动，磁流变液在集群磁铁的作用下形成动态柔性抛光垫，氧化层在动态柔性抛光垫的作用下去除，可改善工件加工效率和加工质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电芬顿 集群 流变 复合 研磨 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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