[实用新型]一种应用于负离子源的喷铯装置有效

专利信息
申请号: 201922378479.3 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN211170853U 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 严仕琛 申请(专利权)人: 武汉市协诚创优科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/14
代理公司: 武汉兮悦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42246 代理人: 刘志强
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区财富一路*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种应用于负离子源的喷铯装置,包括真空泵、控制面板、入水口、环型传导腔和金属管阀,所述真空泵的底端安装有环型传导腔,且环型传导腔的顶端安装有金属管阀,并且金属管阀下方的环型传导腔表面套装有加热箱,所述加热箱远离环型传导腔的一侧安装有加热网,环型传导腔的顶端安装有入水口,且入水口下方的环型传导腔底端安装有出水口,所述加热网一侧的加热箱外壁上安装有循环泵,且循环泵的两端皆安装有输送管,并且输送管的一端延伸至入水口的内部。本实用新型不仅实现了环型传导腔的高效快速受热,避免了安瓿瓶暴力破碎造成危险,而且提高了铯传导效率。
搜索关键词: 一种 应用于 离子源 装置
【主权项】:
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