[实用新型]一种偏光片保护膜气纹改善结构有效

专利信息
申请号: 201922410477.8 申请日: 2019-12-28
公开(公告)号: CN211492836U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 苏博 申请(专利权)人: 深圳市德宏电子有限公司
主分类号: B29C63/02 分类号: B29C63/02;B29C63/48;B08B1/00;B08B13/00
代理公司: 深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙) 44411 代理人: 黄晓玲
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种偏光片保护膜气纹改善结构,属于偏光片技术领域,其包括箱体,所述箱体的左侧面开设有第一滑槽,所述第一滑槽内滑动连接有第一滑块,所述第一滑块的右侧面固定连接有第一连接杆,所述第一连接杆的右端固定连接有驱动装置,所述驱动装置的上表面和下表面均开设有第二滑槽,两个所述第二滑槽内均滑动连接有第二滑块,两个所述第二滑块相远离的一面分别与两个第二连接杆的相对面固定连接。该偏光片保护膜气纹改善结构,通过设置凸轮、滑轮、电机、把手、弹簧和清洁刷,使得工作人员在对偏光片本体贴膜时,偏光片本体表面不易存在杂质,使得在进行贴膜时保护膜与偏光片本体较为贴合,不易出现气纹或气泡。
搜索关键词: 一种 偏光 保护膜 改善 结构
【主权项】:
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