[实用新型]一种研磨抛光盘有效
| 申请号： | 201922428789.1 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN211491121U | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 陈斌 | 申请（专利权）人： | 东莞东武工业研磨有限公司 |
| 主分类号： | B24D18/00 | 分类号： | B24D18/00 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 黄焯辉 |
| 地址： | 523000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及抛光设备技术领域，尤其是指一种研磨抛光盘，包括底盘，所述底盘上设置有螺旋形沟槽，所述螺旋形沟槽内装设有螺旋形抛光部，所述螺旋形抛光部沿着所述螺旋形沟槽连续不间断分布。本实用新型结构新颖，设计巧妙，通过在螺旋形沟槽上设置有连续不间断分布的螺旋形抛光部，通过连续不间断分布的螺旋形抛光部对物料进行抛光，解决传统抛光盘的连续性差的问题，提高抛光效果和产品质量；另外，连续性的螺旋形抛光部便于实现自动化的制造和生产，提高产品质量，降低人工成本，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 抛光 | ||
【主权项】：
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