[实用新型]用于纳米压印的均匀旋涂设备有效
| 申请号： | 201922466659.7 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN211914428U | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 冀然 | 申请（专利权）人： | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B05C13/02 | 分类号： | B05C13/02;B05C11/08;B05C15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266109 山东省青岛市城阳区长城*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种用于纳米压印的均匀旋涂设备，包括：真空吸盘；电机，与真空吸盘的底部连接；基板夹具，位于真空吸盘上；其中，基板夹具包括：与真空吸盘上表面滑动连接的第一夹持部以及第二夹持部，第一夹持部与第二夹持部卡接并定位基板的中心与真空吸盘的中心重合于一点；真空吸盘上表面分别设有用于固定基板的基板固定部，以及用于固定基板夹具的夹具固定部，夹具固定部位于基板固定部外侧；在真空吸盘上表面上位于基板固定部的位置设有支撑部，支撑部的上表面与基板固定部以及夹具固定部的上表面平齐。本实用新型能对异形基板进行有效旋涂，使其基板表面各处胶液厚度均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 压印 均匀 设备 | ||
【主权项】：
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