[实用新型]一种用于半导体设备的循环液温控装置有效
| 申请号： | 201922479669.4 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN211184779U | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 潘鸿当;赵一航;周明辉 | 申请（专利权）人： | 河北艾法茨科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K7/20 | 分类号： | H05K7/20 |
| 代理公司： | 北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11487 | 代理人： | 汪斌 |
| 地址： | 050000 河北省石家庄市高新区*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提出了一种用于半导体设备的循环液温控装置，包括外箱体和安装在外箱体内部的水箱、泵、换热器、过滤器，外箱体的后面板上设置有冷却水出水口、冷却水回水口、循环液出水口和循环液回水口；泵固定安装在水箱上，泵的出水口通过管道连接循环液出水口；换热器上设置有循环液入口、循环液出口、冷却水入口和冷却水出口，循环液入口通过管道连接循环液回水口，循环液出口通过管道连接过滤器的入口，冷却水入口通过管道连接冷却水回水口，冷却水出口通过管道连接冷却水出水口；过滤器的出口通过管道连接水箱回水口。本实用新型装置结构简单、安全性高，可以实现自动化控制半导体设备的循环液温度和水阻值的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体设备 循环 温控 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北艾法茨科技有限公司，未经河北艾法茨科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201922479669.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种薄膜容性弱耦合滤波器
- 下一篇：一种65GHz高频同轴固定衰减器
