[外观设计]衬托器有效
| 申请号： | 201930176437.4 | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN305619109S | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 渡会俊晴;池户洋三;村主拓也 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | 15-09 | 分类号： | 15-09 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人： | 方挺;黄谦 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1.本外观设计产品的名称：衬托器。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于半导体制造设备中作为薄膜形成装置，通过化学气相沉积或原子层沉积在置于衬托器上的晶片上形成薄膜。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。 | ||
| 搜索关键词： | 衬托 | ||
【主权项】：
暂无信息
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