[发明专利]直下式背光源及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201980000072.7 申请日: 2019-01-21
公开(公告)号: CN111727403A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 张宇;耿仕新;谷晓俊;仝广运;周昊;王腾飞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种直下式背光源(20)及其制作方法、显示装置。该直下式背光源(20)包括:发光单元阵列,包括在第一方向和第二方向上均呈轴对称排列的多个发光单元(150);发光单元阵列在第一方向上包括第三区域(D3),从第一边缘(E1)到第三区域(D3)之间还依次包括第一区域(D1)和第二区域(D2);在第二方向上包括第六区域(D6),从第二边缘(E2)到第六区域(D6)之间还依次包括第四区域(D4)和第五区域(D5);第一区域(D1)、第二区域(D2)和第三区域(D3)中在第一方向上相邻的发光单元(150)的间距分别为第一间距(L11)、第二间距(L12)和第三间距(L13),第四区域(D4)、第五区域(D5)和第六区域(D6)中在第二方向上相邻的发光单元(150)的间距分别为第四间距(L21)、第五间距(L22)和第六间距(L23);第二间距(L12)分别大于第一间距(L11)和第三间距(L13),第五间距(L22)分别大于第四间距(L21)和第六间距(L23)。
搜索关键词: 直下式 背光源 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
暂无信息
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