[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置有效
申请号: | 201980000094.3 | 申请日: | 2019-01-29 |
公开(公告)号: | CN111837240B | 公开(公告)日: | 2022-06-21 |
发明(设计)人: | 闫雷;李峰;方业周;樊君;李磊;孟艳艳;姚磊;薛进进;王成龙;王金锋;候林;郭志轩 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L27/32;H01L21/336 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 张海强 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置。所述薄膜晶体管包括:位于衬底一侧的有源层;第一层间电介质层,位于所述有源层远离所述衬底的一侧;源极,贯穿所述第一层间电介质层、且连接到所述有源层;第二层间电介质层,位于所述第一层间电介质层远离所述有源层的一侧、且覆盖所述源极;和漏极,包括第一部分,所述第一部分贯穿所述第二层间电介质层和所述第一层间电介质层、且连接到所述有源层。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 阵列 显示装置 | ||
【主权项】:
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