[发明专利]薄膜形成方法、薄膜形成装置及锂电池在审
| 申请号： | 201980000983.X | 申请日： | 2019-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110352264A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 宜保学;佐佐木俊介;木本孝仁 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/58 | 分类号： | C23C14/58;C23C14/14;H01M4/06;H01M4/08;H01M4/134;H01M4/1395;H01M4/40 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 龚敏;王刚 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的一个方式所涉及的薄膜形成方法包括在真空室内将锂金属膜形成在基材上的处理。所述锂金属膜的表面在所述真空室内被氧化。氧化后的所述锂金属膜的表面在真空室内被碳酸化。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜形成 金属膜 室内 薄膜形成装置 金属膜形成 碳酸化 锂电池 基材 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜形成方法，其中，在真空室内将锂金属膜成膜在基材上，在所述真空室内对所述锂金属膜的表面进行氧化，在所述真空室内对氧化后的所述锂金属膜的表面进行碳酸化。
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