[发明专利]电子设备、采用光学超表面的光场成像系统及方法有效
| 申请号： | 201980001076.7 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110431461B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 赵维民 | 申请（专利权）人： | 深圳市汇顶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;H04N5/225 |
| 代理公司： | 北京天驰君泰律师事务所 11592 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 518045 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光场成像系统、光场成像方法和电子设备。所述光场成像系统包括透镜单元(110)、光学超表面(120)以及图像传感器(130)。所述透镜单元用以收集来自场景的输入光，并输出光信号。所述光学超表面设置在所述光信号的光通路上，用以回应所述光信号来产生光学信号。所述光学超表面对所述光信号具有随空间变化的光学响应。所述图像传感器用以传感所述光学信号以产生光场图像数据。所述光场成像系统能够同时提供高空间分辨率与高角分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 电子设备 采用 光学 表面 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光场成像系统，其特征在于，包括：透镜单元，用以收集来自场景的输入光，并输出光信号；光学超表面，设置在所述光信号的光通路上，所述光学超表面用以回应所述光信号来产生光学信号，所述光学超表面对所述光信号具有随空间变化的光学响应；以及图像传感器，用以传感所述光学信号以产生光场图像数据。
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