[发明专利]三维存储器件中的存储器内计算在审

专利信息
申请号: 201980001301.7 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN110537259A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 杨盛玮;夏仲仪;韩坤 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11529;H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 11376 北京永新同创知识产权代理有限公司 代理人: 林锦辉;刘景峰<国际申请>=PCT/CN
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本公开提供了一种三维(3D)存储器件。示例性3D存储器件包括第一半导体结构,该第一半导体结构包括外围电路、数据处理电路、和包括多个第一键合接触部的第一键合层。该3D存储器件也包括第二半导体结构,该第二半导体结构包括3D NAND存储串的阵列和包括多个第二键合接触部的第二键合层。另外,该3D存储器件包括位于第一键合层和第二键合层之间的键合界面。第一键合接触部在该键合界面处与第二键合接触部接触。
搜索关键词: 半导体结构 存储器件 键合层 键合 键合界面 数据处理电路 外围电路 三维 存储
【主权项】:
1.一种三维(3D)存储器件,包括:/n第一半导体结构,包括外围电路、数据处理电路、和包括多个第一键合接触部的第一键合层;/n第二半导体结构,包括3D NAND存储串的阵列和包括多个第二键合接触部的第二键合层;和/n键合界面,位于所述第一键合层和所述第二键合层之间,其中所述第一键合接触部在所述键合界面处与所述第二键合接触部接触。/n
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