[发明专利]掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置在审
| 申请号： | 201980001689.0 | 申请日： | 2019-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN113302330A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种掩膜装置(2，3)，包括：掩膜边框(110，110')；沿第一方向(D1)延伸的至少一个第一掩膜条(120)和沿第二方向(D2)延伸的至少一个第二掩膜条(130)，固定在掩膜边框(110，110')上；以及沿第一方向(D1)延伸的第一掩膜板(140)，固定在掩膜边框(110，110')上；其中，第一方向(D1)与第二方向(D2)交叉，至少一个第一掩膜条(120)和至少一个第二掩膜条(130)彼此交叉限定至少一个掩膜开口(125)，第一掩膜板(140)包括掩膜图案区(140a)，掩膜图案区(140a)包括阵列排布的多个通孔(140v)，多个通孔(140v)包括第一部分通孔(140v)和第二部分通孔(140v)，至少一个掩膜开口(125)在第一掩膜板(140)上的正投影覆盖掩膜图案区(140a)中的第一部分通孔(140v)，至少一个第一掩膜条(120)和至少一个第二掩膜条(130)在第一掩膜板(140)上的正投影覆盖掩膜图案区(140a)中的第二部分通孔(140v)。还公开了一种掩膜装置(2，3)的制造方法、一种蒸镀方法及一种显示装置。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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