[发明专利]一种光阻剥离液的隔离结构、TFT阵列及其制备方法

摘要

本发明公开了一种光阻剥离液的隔离结构、TFT阵列及其制备方法，所述隔离结构包括：保护层、设置在所述保护层上的硬化层；所述硬化层采用气体进行等离子轰击所述保护层而成，并用于隔离所述光阻剥离液。通过在有机保护层等保护层表面形成一层硬化层，硬化层可以防止后续工序中的化学试剂，如光阻剥离液，进入到保护层中，从而达到将光阻剥离液隔离在保护层外的目的，保护了保护层。