[发明专利]流体处理装置在审

专利信息
申请号: 201980003194.1 申请日: 2019-01-25
公开(公告)号: CN110799792A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 郑*鹤;金智元;申相哲;郑雄基 申请(专利权)人: 首尔伟傲世有限公司
主分类号: F24F3/16 分类号: F24F3/16;A61L9/20
代理公司: 11722 北京钲霖知识产权代理有限公司 代理人: 李英艳;玉昌峰
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 根据本发明的一实施例,提供一种流体处理装置,其包括:光催化剂过滤器,对流体进行脱臭并杀菌;框架,固定所述光催化剂过滤器;以及光源部,与所述框架结合,所述光源部包括:光源支承部件;以及发光二极管,提供于所述光源支承部件上而向所述光催化剂过滤器上射出光,所述框架和所述光源支承部件以使所述光催化剂过滤器和所述发光二极管间隔的形式结合。
搜索关键词: 光催化剂过滤器 光源支承部件 光源部 发光二极管间隔 流体处理装置 发光二极管 射出光 流体 脱臭 杀菌
【主权项】:
1.一种流体处理装置,包括:/n光催化剂过滤器,对流体进行脱臭并杀菌;/n框架,固定所述光催化剂过滤器;以及/n光源部,与所述框架结合,/n所述光源部包括:/n光源支承部件;以及/n发光二极管,提供于所述光源支承部件上而向所述光催化剂过滤器上射出光,/n所述框架和所述光源支承部件以使所述光催化剂过滤器和所述发光二极管间隔的形式结合。/n
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