[发明专利]测量处理装置、测量处理方法以及程序在审
| 申请号： | 201980004233.X | 申请日： | 2019-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111065899A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 工藤雅哉 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | G01D21/02 | 分类号： | G01D21/02;G01D9/00;G01D21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 韩锋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 测量处理装置具备：存储部；第一获取部，其获取从第一设备输出的、表示相对于测量对象物的测量的测量结果的第一信号；暂时存储部，其存储由所述第一获取部获取的所述第一信号；第二获取部，其获取从与所述第一设备不同的第二设备输出的第二信号，所述第二信号表示所述测量对象物的位置或与所述测量对象物的位置相对应地变化的变化量；存储控制部，其在所述存储部存储使所获取的所述第二信号与在所述暂时存储部中存储的所述第一信号相对应的测量信息；输出控制部，其将在所述存储部中存储的、至少一个所述测量信息向控制装置输出。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 处理 装置 方法 以及 程序 | ||
【主权项】：
暂无信息
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