[发明专利]具有高迁移率通道的三维平坦NAND存储器装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201980005935.X 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN111386607A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: R.马卡拉;周非;S.K.卡纳卡迈达拉;李耀升 申请(专利权)人: 桑迪士克科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11578;H01L27/11524;H01L27/11529;H01L27/1157
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 美国得*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种三维存储器装置包含通过线型沟槽横向隔开的绝缘条带和导电条带的交替堆叠,以及位于所述线型沟槽中的存储器堆叠组合件和电介质柱结构的交替二维阵列。所述线型沟槽中的每一个填充有存储器堆叠组合件和电介质柱结构的相应横向交替序列。每一存储器堆叠组合件包含竖直半导体通道和一对存储器膜。所述竖直半导体通道包含具有大晶粒的半导体通道层,所述大晶粒可通过从下伏于所述交替堆叠的半导体衬底中的晶种半导体材料层、牺牲半导体材料层或单晶半导体材料进行的选择性半导体生长来提供。
搜索关键词: 具有 迁移率 通道 三维 平坦 nand 存储器 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桑迪士克科技有限责任公司,未经桑迪士克科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980005935.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top