[发明专利]两阶段资源扩展多址(RSMA)设计有效

专利信息
申请号: 201980007653.3 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN111566959B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: S·朴;雷静;R·王;J·B·索里亚加;蒋靖;T·姬;J·K·森达拉拉扬;Y·托科佐;N·布衫 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H04J13/16 分类号: H04J13/16;H04J11/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 汪威;唐杰敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了两阶段加扰设计,其用于生成和解码资源扩展多址(RSMA)经调制流。用户装备(UE)使用第一加扰序列对数据流集合中的每个数据流进行加扰,以生成第一经加扰数据流集合,并且然后使用第二加扰序列对第一经加扰数据流集合进行加扰,以生成第二经加扰数据流集合,其中第二加扰序列长于第一加扰序列。然后,UE传送第二经加扰数据流集合。接收方基站确定UE所使用的第一和第二加扰序列,并基于所确定的加扰序列来对接收自UE的传输进行解码。
搜索关键词: 阶段 资源 扩展 rsma 设计
【主权项】:
暂无信息
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