[发明专利]辐射冷却装置在审
| 申请号： | 201980009051.1 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111630419A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 末光真大;斋藤祯 | 申请（专利权）人： | 大阪瓦斯株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/26 | 分类号： | G02B5/26;B32B7/035;B32B15/04;B32B17/06;F28F21/04;F28F21/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 童春媛;庞立志 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供可在实现光反射层的低廉化的同时，适当地冷却冷却对象的辐射冷却装置。将从辐射面H辐射红外光IR的红外辐射层A和位于该红外辐射层A的与辐射面H存在侧相反一侧的光反射层B以层叠状态设置，光反射层B构成为将由银或银合金形成的第1层B1和由铝或铝合金形成的第2层B2以使第1层B1位于靠近红外辐射层A一侧的形态层叠的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 冷却 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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