[发明专利]用于辐射源的靶、用于生成侵入性电磁辐射的辐射源、辐射源的用途、以及产生用于辐射源的靶的方法在审
| 申请号： | 201980009959.2 | 申请日： | 2019-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN111902903A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | M·埃尔勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 卢江;刘春元 |
| 地址： | 德国奥*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于侵入性电磁辐射的辐射源（1）的靶（10），该靶包括：至少一个靶元件（20），该至少一个靶元件被配置用于在用粒子照射后生成侵入性电磁辐射、并且联接至基材装置（28）以从该靶元件耗散热量，其中，该靶元件（20）具有形成该靶元件（20）的外表面的第一部分的外围表面，其中，该靶元件（20）的外表面另外由该靶元件（20）的侧表面（38）形成，其中，该侧表面（38）的范围限定该靶元件（20）的厚度（D），其中，该侧表面（38）的外围线形成该外围表面的边际线，其中，该靶（10）具有端面（22），作为该端面的一部分，该靶元件（20）的侧表面（38）以暴露的方式布置以被所述粒子照射，并且其中，该基材装置（28）与该外围表面相接触。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 辐射源 生成 侵入 电磁辐射 用途 以及 产生 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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