[发明专利]检测设备和检测方法在审
| 申请号： | 201980011024.8 | 申请日： | 2019-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN111670412A | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | N·库马尔;理查德·金塔尼利亚;M·G·M·M·范卡拉埃吉;康斯坦丁·特斯古特金;W·M·J·M·考恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/22;G03F1/24;G03F1/60;G03F1/84;G02F1/37;G01N21/956;G21K1/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测，第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法，该方法包括使用第一检测辐射来进行粗略检测(310)，第一检测辐射具有在第一波长范围内的一个或多个第一波长；以及使用第二检测辐射来执行精细检测(320)，第二检测辐射具有在第二波长范围内的一个或多个第二波长，所述第二波长范围包括比所述第一波长范围的波长短的波长。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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