[发明专利]用于形成三维光场分布的光学器件在审
| 申请号： | 201980011194.6 | 申请日： | 2019-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN111684341A | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | X·罗滕伯格;K·洛德威克斯 | 申请（专利权）人： | IMEC非营利协会 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01;G03H1/00;G03H1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 杨洁;陈斌 |
| 地址： | 比利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于形成三维光场分布的光学器件，包括：可单独寻址的单位晶格的阵列；该单位晶格的阵列中的每一个单位晶格包括堆叠，该堆叠包括：至少一个电极；以及共振限定层，包括至少相变材料(PCM)层，其中该共振限定层被图案化以限定几何结构，该几何结构被确定尺寸以限定电磁波的依赖于波长的面内共振；其中该至少一个电极基于接收到用于改变共振限定层中的共振的波长依赖性的控制信号来导致相变材料的相变用以控制单位晶格的光学特性；其中该单位晶格阵列中的各单位晶格被隔开以使得一单位晶格的PCM层与相邻单位晶格中的PCM层隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 三维 分布 光学 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于IMEC非营利协会，未经IMEC非营利协会许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980011194.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于聚合反应的含酮可控自由基引发剂
- 下一篇：工具材料的制造方法及工具材料
