[发明专利]确定用于量测设备的最佳聚焦高度的方法有效
| 申请号： | 201980011519.0 | 申请日： | 2019-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN111727407B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | M·V·梅德韦久瓦;A·齐亚托马斯;H·A·J·克瑞姆;M·H·M·范维尔特;B·O·夫艾格金格奥尔;尚晓昕;J·M·范博克斯梅尔;B·韦斯特拉特恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/38 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开确定最佳聚焦高度的方法。在一种布置中，获得来自所述量测过程至目标的多次应用的测量数据。所述量测过程的每次应用包括利用辐射斑来照射所述目标并检测由所述目标改变方向的辐射。所述量测过程的所述应用包括在不同名义聚焦高度处的应用。针对所述量测过程的每次应用，所述测量数据包含被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示的至少一个分量。所述方法包括使用所获得的测量数据来确定所述量测过程的最佳聚焦高度。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 用于 设备 最佳 聚焦 高度 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980011519.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：滤波器装置以及多工器
- 下一篇：橡胶组合物
