[发明专利]用于使非平面物体曝光的方法、光学部件和曝光系统在审
| 申请号： | 201980012383.5 | 申请日： | 2019-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN111954850A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | R·帕根 | 申请（专利权）人： | 密华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 孙鹏;申屠伟进 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于使非平面物体（14）曝光的方法，其中光学部件（41）布置在待曝光的非平面物体（14）上，其中光学部件的轮廓（43，45）以这种方式形成，使得在单个曝光操作期间在用于使非平面物体（14）曝光的处理头（16）或曝光源（20）的光输出与待曝光的非平面物体（14）的表面（33）上的每一点之间生成恒定光路长度。（参见图4）。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 平面 物体 曝光 方法 光学 部件 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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