[发明专利]对发射线圈的有源B1+匀场有效

专利信息
申请号: 201980012801.0 申请日: 2019-01-10
公开(公告)号: CN111712719B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: C·洛斯勒;P·韦尔尼科尔;O·利普斯;I·施马勒;D·维尔茨 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01R33/36 分类号: G01R33/36;G01R33/565;G01R33/34;G01R33/3415
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘兆君
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种磁共振成像系统(100),其包括被配置用于从成像区(108)采集磁共振数据(144)的射频系统(116、114、118)。所述射频系统被配置用于发送并接收射频信号以采集所述磁共振数据,其中,所述射频系统包括:椭圆形发射线圈(114),其被配置用于生成所述成像区内的B1+激励场;以及有源B1匀场线圈(118),其被配置用于被放置在所述成像区内,其中,所述射频系统被配置用于在由所述椭圆形发射线圈对所述B1+激励场的所述生成期间向所述有源B1匀场线圈供应射频功率,其中,所述B1匀场线圈被配置用于对所述成像区内的所述B1+激励场进行匀场。
搜索关键词: 发射 线圈 有源 b1
【主权项】:
暂无信息
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