[发明专利]自清洁离子发生器装置在审
| 申请号： | 201980012965.3 | 申请日： | 2019-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN111954544A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 查尔斯·休斯顿·沃德尔 | 申请（专利权）人： | 环球等离子解决方案公司 |
| 主分类号： | A61L9/22 | 分类号： | A61L9/22;B08B1/00;B08B1/04;H01J27/02 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 美国佐*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种自清洁离子发生器装置包括：第一部分，其具有延伸到外边缘的基部，以及从外边缘向上延伸并且在拐角处相交的第一对相对的侧壁和第二对相对的侧壁，从而在其中形成腔；第二部分包括延伸到外边缘的基部，所述第二部分选择性地固定到所述第一部分，从而形成壳体；至少一个离子发射装置，其从所述壳体延伸；以及至少一个清洁设备，用于清洁所述至少一个离子发射装置。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 离子 发生器 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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