[发明专利]基底处理有效
| 申请号： | 201980013170.4 | 申请日： | 2019-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN112105436B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | A·拉赫马特赫拉;A·J·达拉斯;S·K·桑塔格;B·G·豪瑟;D·B·莫拉维茨;V·K·卡普尔;M·P·格尔兹;D·L·图玛;W·E·达曼;M·J·克罗宁;M·J·马德森;S·S·拉贾瑞亚;C·S·克莱斯特;J·M·布洛克 | 申请（专利权）人： | 唐纳森公司 |
| 主分类号： | B01D39/16 | 分类号： | B01D39/16;B01D39/18;B01D39/20 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 王维绮 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本技术涉及基底处理、经处理的基底和过滤器。经处理的基底可以具有经处理的表面，其限定未经处理的表面区域之间的图案和/或梯度。当所述表面浸入甲苯中时，对于50μL水滴，经处理的表面区域可具有比未经处理的表面区域更高的滚落角。可以通过例如将基底表面和/或纤维暴露于紫外线(UV)辐射来处理基底。作为示例，可以经由掩模、透镜、波导、反射器将UV辐射施加到表面上。UV辐射可以以不同的强度施加到表面上，这可以产生处理梯度。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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