[发明专利]流体处理装置在审
申请号: | 201980014760.9 | 申请日: | 2019-02-18 |
公开(公告)号: | CN111742225A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 砂永伸也;山内拓史 | 申请(专利权)人: | 恩普乐股份有限公司 |
主分类号: | G01N35/08 | 分类号: | G01N35/08;G01N37/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本埼玉*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的第一流体处理装置具有:第一液体导入部;第一清洗液导入部;第一流路,用于使导入至所述第一液体导入部及所述第一清洗液导入部的液体流动;第二液体导入部;第二清洗液导入部;第二流路,用于使导入至所述第二液体导入部及所述第二清洗液导入部的液体流动;第三流路,用于使在所述第一流路中流过来的液体及在所述第二流路中流过来的液体流动;第一隔膜阀,配置于所述第一流路与所述第三流路之间;第二隔膜阀,配置于所述第二流路与所述第三流路之间;以及腔室,与所述第三流路连接。 | ||
搜索关键词: | 流体 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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