[发明专利]训练用于计算光刻术的机器学习模型的方法在审
| 申请号： | 201980015018.X | 申请日： | 2019-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN111788589A | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 曹宇;罗亚;卢彦文;陈炳德;拉斐尔·C·豪厄尔;邹毅;苏静;孙德政 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G06N20/00 | 分类号： | G06N20/00;G03F1/36;G06N3/04;G06N3/08;G06F30/27 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文描述了训练与图案化过程相关的机器学习模型的不同方法。本文描述了一种用于训练被配置成预测掩模图案的机器学习模型的方法。该方法包括获得：(i)图案化过程的被配置成预测衬底上的图案的过程模型，其中该过程模型包括一个或更多个经训练的机器学习模型；和(ii)目标图案；以及由硬件计算机系统基于过程模型和成本函数来训练被配置成预测掩模图案的机器学习模型，该成本函数确定预测图案与目标图案之间的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 训练 用于 计算 光刻 机器 学习 模型 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980015018.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
