[发明专利]用于形成三维光场分布的光学器件、系统和方法有效
| 申请号： | 201980015133.7 | 申请日： | 2019-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN111771168B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | X·罗滕伯格;K·洛德威克斯 | 申请（专利权）人： | IMEC非营利协会 |
| 主分类号： | G03H1/02 | 分类号： | G03H1/02;G02F1/135;G03H1/22 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 杨洁;陈斌 |
| 地址： | 比利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于形成三维光场分布的光学器件(100)，包括：单位晶格(104)的阵列(102)，单位晶格(104)可单独寻址以用于在第一状况和第二状况之间切换单位晶格(104)的光学特性；其中单位晶格(104)被配置为选择性地活跃或不活跃，并且其中，阵列(102)至少包括第一和第二不相交子集(110；112；114；116)，并且其中，子集(110；112；114；116)中的单位晶格(104)被配置成从不活跃联合切换到活跃，其中活跃单位晶格(104)被配置成与入射光束(106)相互作用以形成三维光场分布；并且其中，该光学器件(100)被配置成寻址不活跃单位晶格(104)以用于切换单位晶格(104)的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 三维 分布 光学 器件 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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