[发明专利]记录层、光信息记录介质及溅射靶有效
| 申请号： | 201980015237.8 | 申请日： | 2019-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN111771242B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 田内裕基 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | G11B7/2433 | 分类号： | G11B7/2433;C23C14/08;C23C14/34;G11B7/24035;G11B7/2578;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本兵库县神户市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种记录层、光信息记录介质及溅射靶。本发明的一实施方式的记录层是通过激光的照射进行记录的光信息记录介质用的记录层，包含W氧化物、Fe氧化物、以及Ta氧化物及Nb氧化物中的至少任一种，且在全部金属原子中，包含10原子％以上且60原子％以下的Fe、合计为3原子％以上且50原子％以下的Ta及Nb。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 信息 介质 溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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