[发明专利]光投射系统及方法有效
申请号: | 201980016019.6 | 申请日: | 2019-10-24 |
公开(公告)号: | CN114008501B | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 吕方璐;饶轶 | 申请(专利权)人: | 深圳市光鉴科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/124 | 分类号: | G02B6/124;G02B6/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518054 广东省深圳市南山区粤海街道高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种光投射系统(102),包括:波导器件(1401),包括第一表面,第二表面和第四表面,第一表面和第二表面中的至少一个表面包括多个第一光栅结构;光源(1402),用于将光耦合到波导器件(1401)中以形成入耦合光束,其中:每个第一光栅结构被配置为破坏全内反射,以使至少一部分入耦合光束耦合出所述波导器件(1401),所述入耦合光束的剩余光束进行全内反射,在经过所述第一光栅结构耦合出后,从波导器件(1401)耦合出;检测器(1403),被配置为接收并测量剩余光束;处理器(1404),与检测器(1403)相连接。 | ||
搜索关键词: | 投射 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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