[发明专利]具有用于分子识别的纳米孔的隧道结的制造在审
| 申请号： | 201980016384.7 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN111819290A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | J·托普兰奇克;Z·马吉克;F·米切尔 | 申请（专利权）人： | 豪夫迈·罗氏有限公司 |
| 主分类号： | C12Q1/6869 | 分类号： | C12Q1/6869;G01N27/327;G01N33/487 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 史婧;王丽辉 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本技术的实施例可允许改进的和更可靠的隧道结以及制造隧道结的方法。电气短路问题可通过沉积不具有尖锐侧壁和拐角而是相反地具有倾斜或弯曲侧壁的电极来减少。沉积在电极层顶部上的层可然后能够充分覆盖下面的电极层，并且从而减少或防止短路。另外，两个绝缘材料可用作介电层，可减少不完全的覆盖的可能性和剥落的可能性。此外，电极可从接触区域到结区域逐渐减小，以提供薄的电极，在该薄的电极处，孔被图案化，而较厚的接触区域减少薄层电阻。电极还可被图案化为在接触区域处较宽并且在结区域处较窄。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 分子 识别 纳米 隧道 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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