[发明专利]XUV和X射线衍射光学元件的制造方法在审
| 申请号： | 201980018044.8 | 申请日： | 2019-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN111819492A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 乌穆特·腾卡·桑利;哈坎·塞兰;梅廷·斯蒂;吉泽拉·许茨;卡拉曼·凯斯金博拉 | 申请（专利权）人： | 马克斯-普朗克科学促进学会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G21K1/06;B29D11/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明指的是一种用于打印微尺度或纳米级XUV和/或X射线衍射光学元件(1)的方法，包括以下步骤：a)提供具有感光的并且通过双光子吸收可聚合的第一成分(2a)的材料(2)；b)提供光学元件(1)的期望的几何结构(4)的数据(3)，并且对应于光学元件(1)的期望的结构(4)的数据(3)建立至少一个轨迹(8)；c)提供第一高强度能量束(5)，特别是激光束，其中束(5)包括焦点(F)，焦点(F)的位置能被调节到符合至少一个轨迹(8)的多个位置(F1,F2,,Fp)；d)材料(2)在焦点(F)的第一位置(Fn)通过双光子吸收聚合，从而创建光学元件(1)的结构(4)的第一体素(vn1n2n3)；调节焦点(F)的位置沿着至少一个轨迹(8)从焦点(F)的第一位置(Fn)到随后位置(Fn+1)，并且在焦点(F)的随后位置(Fn+1)处重复步骤d)，其中焦点(F)的位置(F1,F2,…,Fp)中的每一个和焦点(F)的位置(F1,F2,…,Fp)中其余的至少一个之间的距离(d)，就他们平行于所述距离(d)的维度而言，小于在这些位置生成的体素的平均直径(vd)。 | ||
| 搜索关键词： | xuv 射线 衍射 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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