[发明专利]石墨烯表膜光刻设备在审
| 申请号： | 201980018223.1 | 申请日： | 2019-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN111836681A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | E·库尔干诺娃;A·J·M·吉斯贝斯;A·L·克莱因;马克西姆·A·纳萨勒维奇;A·W·诺滕博姆;M·彼得;彼得-詹·范兹沃勒;D·F·弗莱斯;S·沃勒布瑞特;W-P·福尔蒂森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | B01J23/652 | 分类号： | B01J23/652;B01J23/883;B01J23/885;B01J23/28;B01J23/30;B01J27/22;B01J21/18;B01J37/02;B01J35/00;G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 披露了一种催化剂，包括：第一层，所述第一层包括钼；基层；和中间层，其中所述中间层被设置在所述基层与所述第一层之间。也披露了制备催化剂的方法以及用于合成石墨烯的方法、使用本文中所披露的所述催化剂或所述方法而生产的表膜，以及包括这样的膜的光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 烯表膜 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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