[发明专利]检查掩模的方法与装置

摘要

本发明关于检查掩模的方法及装置，其中方法包含以下步骤：测量由于在至少一个衍射级的衍射而在光瞳平面中在照明掩模上存在的掩模结构(11，21)时产生的第一强度分布(14，24)，其中该衍射级为第+1级衍射、第‑1级衍射或更高级的衍射；测量由于在该衍射级的衍射而在光瞳平面中在照明参考结构(10，20)时产生的第二强度分布(13，23)；以及基于第一强度分布和第二强度分布之间的差异，识别该掩模上所存在的掩模结构的横向偏移或局部间距变化的至少一个区域。