[发明专利]研磨液、研磨液组及研磨方法有效
| 申请号： | 201980020030.X | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111868202B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 岩野友洋;松本贵彬;久木田友美;长谷川智康 | 申请（专利权）人： | 昭和电工材料株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一方面提供一种研磨液，其含有磨粒、羟基酸、多元醇、选自由氨基羧酸及氨基磺酸组成的组中的至少一种的两性离子化合物以及液态介质，且磨粒的ζ电位为正，氨基羧酸的等电点小于7.0，氨基磺酸的pKa大于0。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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