[发明专利]用于测定设备的光学反应井孔有效
申请号: | 201980021309.X | 申请日: | 2019-03-22 |
公开(公告)号: | CN112055617B | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 托马斯·H·考利三世 | 申请(专利权)人: | 达丽斯生物医学公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李慧慧;杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及一种用于同时填充多个样品腔室的装置。在一个方面,该装置包括公共流体源和多个独立的连续流控路径。每个独立的连续流控路径包括样品腔室和气动隔室。样品腔室连接到公共流体源,并且气动隔室连接到样品腔室。样品腔室部分地包括测定腔室。测定腔室包括整体式基体和具有光学透射特性的塞子。在一些实施例中,测定腔室包含磁性混合元件。在一些实施例中,测定腔室是双锥形腔室。在一些实施例中,对于多个流控路径中的每个流控路径,样品腔室的体积与气动隔室的体积的比率基本上相等。 | ||
搜索关键词: | 用于 测定 设备 光学 反应 | ||
【主权项】:
暂无信息
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