[发明专利]基板处理设备在审
| 申请号： | 201980021363.4 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN111902905A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 吴雄教;具泫淏;刘光洙;李相斗;曺圭正 | 申请（专利权）人： | 周星工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理设备，该基板处理设备包括：支撑部，支撑部用于支撑基板；第一电极部，第一电极部设置在支撑部的上方；第二电极部，第二电极部设置在第一电极部的上方；产生孔，产生孔形成为延伸穿过第一电极部；以及突出电极，突出电极从第二电极部向下突出至与产生孔相对应的位置处的同时与第二电极部耦接，其中，突出电极形成为在竖直方向上具有比第一电极部短的长度。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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