[发明专利]控制EUV光源中的碎片的装置和方法在审
申请号: | 201980021477.9 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN111903195A | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | M·G·兰格洛斯;R·G·M·兰斯博根;M·H·A·里恩德斯;H·G·泰格波什 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 公开了一种EUV系统,该EUV系统包括用于以液体形式累积目标材料碎片的措施,其中目标材料被阻隔喷吐到光学元件上,并且在其中可以引起目标材料固化并且然后传送到目标材料可以被熔融并且被允许排掉而不会污染收集器的位置。 | ||
搜索关键词: | 控制 euv 光源 中的 碎片 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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