[发明专利]光敏半导体组件及形成光敏半导体组件的方法在审

专利信息
申请号: 201980021856.8 申请日: 2019-03-28
公开(公告)号: CN111902950A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 曼纽尔·施密特 申请(专利权)人: 威世半导体有限公司
主分类号: H01L31/11 分类号: H01L31/11
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 彭愿洁;彭家恩
地址: 德国海*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种光敏晶体管,其具有:作为集电极层的第一导电类型的半导体衬底(10);位于衬底上方的第一导电类型的低掺杂层(11),该层具有不同厚度的区域;位于低掺杂层(11)的至少部分区域上方的第二导电类型的半导体基极层(12);以及位于基极层(12)的至少部分上方的第一导电类型的射极层(13),但射极层不在基极层(12)的特定部分的至少部分上方,所称特定部分位于低掺杂层(11)的较薄区域上方。
搜索关键词: 光敏 半导体 组件 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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