[发明专利]防护件用支撑框、防护件及其制造方法以及使用这些的露光底版、半导体装置制造方法在审

专利信息
申请号: 201980022551.9 申请日: 2019-03-15
公开(公告)号: CN111919171A 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 石川彰;大久保敦;小野阳介;高村一夫 申请(专利权)人: 三井化学株式会社
主分类号: G03F1/64 分类号: G03F1/64;G03F7/20
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;杜嘉璐
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种支撑框,其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔,粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框,具备:贯通孔,其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔;以及过滤器,其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部,并且从上述防护膜离开地配置。
搜索关键词: 防护 支撑 及其 制造 方法 以及 使用 这些 露光 底版 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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