[发明专利]用于直接还原工艺的氧气注入系统在审
| 申请号： | 201980022652.6 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN112088142A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 道下晴康;安东尼奥·埃略特 | 申请（专利权）人： | 米德雷克斯技术公司 |
| 主分类号： | C01B3/36 | 分类号： | C01B3/36;C21B13/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 郭雪茹 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于直接还原工艺的氧气注入系统，包括：共用周向气体注入集管，所述共用周向气体注入集管适于联接到氧气源和富集天然气源，并且适于将来自所述氧气源的氧气和来自所述富集天然气源的富集天然气输送到还原气流，所述还原气流通过周向设置的多个端口流动通过轴向设置在所述共用周向气体注入集管内的导管以形成奔忙气流；其中所述共用周向气体注入集管包括：周向氧气注入集管，所述周向氧气注入集管适于通过周向设置的所述多个端口将来自所述氧气源的所述氧气输送到所述还原气流；和周向富集天然气注入集管，所述周向富集天然气注入集管适于通过周向设置的所述多个端口将来自所述富集天然气源的所述富集天然气输送到所述还原气流。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 直接 还原 工艺 氧气 注入 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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