[发明专利]单色X射线成像系统及方法在审
| 申请号： | 201980023793.X | 申请日： | 2019-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN112203587A | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 埃里克·H·西尔弗 | 申请（专利权）人： | 想像科学有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/02;A61B6/03;A61N5/10;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐京桥;杨林森 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据一些方面，提供了一种单色x射线源。该单色x射线源包括：电子源，其被配置成生成电子；初始靶，其被布置成接收来自电子源的电子以响应于撞击在初始靶上的电子而产生宽带x射线辐射；以及次级靶，其包括至少一个材料层，所述至少一个材料层能够响应于由初始靶发射的入射宽带x射线辐射而产生单色x射线辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 单色 射线 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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