[发明专利]自参考光谱仪在审
| 申请号： | 201980023882.4 | 申请日： | 2019-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN111936831A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | M·梅德哈特;B·莫塔达;Y·M·萨布里;M·胡萨姆;M·安瓦尔;A·什布尔;H·哈德达拉;B·A·萨达尼 | 申请（专利权）人： | 斯维尔系统 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02;G01J3/10;G01J3/45;G01J3/26;G01J3/453;G01B9/02;G02B26/08;G02B17/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 马明月 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的各方面涉及一种自参考光谱仪，其用于提供对背景或参考光谱密度以及样品或其他光谱密度的同时测量。自参考光谱仪包括干涉仪，该干涉仪被光耦合以接收输入光束，并且沿第一光路引导输入光束以产生第一干涉光束，并且沿第二光路引导输入光束以产生第二干涉光束，其中每个干涉光束是在干涉仪的输出之前被产生的。光谱仪还包括检测器，其被光耦合以同时检测从第一干涉光束产生的第一干涉信号和从第二干涉光束产生的第二干涉信号，以及处理器，其被配置为处理第一干涉信号和第二干涉信号，并且在处理第一干涉信号时将第二干涉信号用作参考信号。 | ||
| 搜索关键词： | 参考 光谱仪 | ||
【主权项】：
暂无信息
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