[发明专利]水平传感器和光刻设备在审
| 申请号： | 201980024981.4 | 申请日： | 2019-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111936937A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | S·R·胡伊斯曼;M·P·瑞因德斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于测量衬底的表面的位置的水平传感器，包括：投影单元，被布置成将辐射束引导至所述衬底的所述表面；和检测单元。所述检测单元包括：检测光栅，被布置成接收在所述衬底的所述表面上反射的辐射束；一个或更多个检测器；一个或更多个光学元件，用以将所述辐射束从所述检测光栅引导至所述一个或更多个检测器；以及处理单元，用以基于由所述一个或更多个检测器所接收到的辐射束来确定所述衬底的所述表面的位置。所述检测光栅和所述一个或更多个光学元件被集成在单个集成光学元件中。 | ||
| 搜索关键词： | 水平 传感器 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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