[发明专利]用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测设备和方法有效
| 申请号： | 201980025279.X | 申请日： | 2019-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112005157B | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | P·A·J·廷尼曼斯;V·T·坦纳;A·J·登博夫;H·A·J·克拉默;P·沃纳尔;G·格泽拉;M·J·J·贾克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;G03F7/20;G03H1/04;G03H1/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种用于测量与衬底上的结构有关的关注的特性的方法和相关联设备。所述方法包括在利用照射辐射照射结构之后，直接地由关注的特性对在照射辐射被所述照射辐射被所述结构散射时的至少相位的影响，来计算关注的特性的值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 衬底 一个 更多 结构 特性 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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